刻胶的一些光敏型聚酰亚胺材料
光刻胶，顾名思义，用于光刻的一种胶
所谓光刻，字面意思就是用光去雕刻
当然，自然界的光，以及各种极紫外线，是无法直接像一把刀一样去雕刻东西的，只有那种具有超高能量的激光之类，才能用于直接雕刻
在芯片领域的光刻，是利用某些具有对光线非常敏感特性的胶，均匀涂抹在晶圆上，然后再在胶的表面贴付一层薄膜，这层薄膜被设计成需要的电路图案光线从电路图案中穿过，照射到胶的表面，胶因为对光线敏感于是发生反应，显露出和电路图案相同或相反的电路图案来，那些没有被光线照射到的地方，自然还是被胶覆盖着
然后，将晶圆浸入特制的溶液当中
如此一来，被胶覆盖着的地方，晶圆被保护了起来，没有变化而那些没有胶的地方，特制溶液就将晶圆腐蚀了
腐蚀的痕迹，自然就和电路图案相同或者相反
晶圆从特殊溶液中取出，用纯净水一冲，上面就留下了所需要的电路图案
所以，与其说是光刻，不如说是蚀刻，腐蚀雕刻，只是这种“腐蚀雕刻”比一般所说的腐蚀雕刻在精度上高了N个等级，不可同日而语，所以起了个比较高大上的名字“光刻”
大致原理如此，但知易行难
一个小小的芯片，集成的电路宛若一个小型的世界，这里面的精度以纳米计算
只是辅助生产用的光刻胶，它所限制的厚度也都是以纳米来计算
譬如20纳米制程的芯片制造，需要的光刻胶厚度就不能超过100个纳米，更为先进的3-10纳米制程芯片，它所需要的光刻胶厚度就可想而知了
周飞宇暗暗思考了一会，知道以飞扬新材料目前的设备以及制程能力来说，还达不到这种技术，还需要一段时间的发展和扩充
“方便透露下，中正公司目前是在和哪家公司联合研发这一块吗？”
周飞宇嘴上却没说什么，反而问了起来
“目前中正公司正在和金陵的华科新材公司合作，有望这个月完成Arf线光刻胶的测试工作，下个月进入试产阶段”
余龙光这会没有隐瞒了，直接说道
当然，说完之后也不忘叮嘱下周飞宇注意保密工作
“了解了”
周飞宇点了点头，也知道中正公司是千方百计想要重回手机芯片行业，以至于在见识到他的材料研发能力后，余龙光都特意跑了过来和他聊
不过，余龙光所说的这个月完成Arf线光刻胶测试，下个月进入试产，他是有点不信的，哪有这么快这么顺利的测试？
余龙光见他反应不是很大，心下有些失望，随后便叹了口气后说道：“光刻胶领域技术难度大，市场容量却小，验证周期长，的确很多人企业或者团体不愿意往这方面投入周总若是没这方面的