第四十七章 蒲伟才
1月15日，星期六biqu31。cc
合痩市biqu31。cc
乘坐高铁的卫明，来到了这座城市biqu31。cc
为此他特意跟樊姐请了两天假，提前处理了三十多名结石病人，合计腾出三天时间，就为了解决掉一个问题biqu31。cc
人才！
高端光刻机的研发人才biqu31。cc
而且卫明已经有了明确的招募目标，他认为的最合适最优秀的人才，就在合瘦市这边biqu31。cc
此人名叫蒲伟才biqu31。cc
卫明是在网上查找相关信息的过程中，看到了多条关于此人的新闻biqu31。cc
也注意到此人带领的研发团队，取得的跟光刻机相关的多项研究成果，了解了此人的牛叉之处biqu31。cc
因为这些天卫明也在大力学习一些跟光刻机相关的知识，了解到了EUV光刻机的几大核心技术biqu31。cc
一个，组装biqu31。cc
光刻机最重要的技术之一是组装，就是把所有的元件组装起来，然后使分辨率达到最高，同时套刻精度达到最佳biqu31。cc
比如机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器biqu31。cc一台光刻机中，包含十几个分系统，几万个机械件，数百个的传感器，每一个都要稳定biqu31。cc
二，控制biqu31。cc
光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品biqu31。cc光刻的原理就像在米粒大小的面积上，雕刻纳米级大小的文字，对于误差的要求可想而知biqu31。cc
比如光刻机里有2个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片biqu31。cc两者需始终同步，误差在2纳米以下biqu31。cc两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多biqu31。cc
三，光源biqu31。cc
制造EUV需要极高的能量biqu31。ccEUV能被空气吸收，所以光刻环节必须耗电保持真空环境biqu31。cc更夸张的是，EUV还能被透镜吸收，所以只能用十几次面透镜，通过不断反射将光源集中biqu31。cc
每反射1次，EUV的能量就会损失3成biqu31。cc十几次反射后，到达晶圆的光线理论上只剩下2%biqu31。cc从能连赶上看，寒国某半导体企业曾经说过，极紫外光EUV的能源转换效率只有%左右biqu31。cc
四、镜头biqu31。cc
光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成，需要高纯度